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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD2000高純晶須碳納米管導(dǎo)電劑研磨分散機

    高純晶須碳納米管導(dǎo)電劑研磨分散機配套三層連續(xù)高剪切分散機,用于粉體和液體的預(yù)分散,分散后進入高剪切分散工序,配管能夠打循環(huán).

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    2025-09-06

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  • XMD2000醇類硅溶膠高剪切研磨分散機

    醇類硅溶膠高剪切研磨分散機可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料100%通過分散剪切。

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  • XMD2000無機彩色顏料研磨分散機

    無機彩色顏料研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000鋁合金精煉劑高剪切分散機

    鋁合金精煉劑高剪切分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XLC2000玻璃纖維粉雙入口分散混合機

    玻璃纖維粉雙入口分散混合機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

    硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XLC2000結(jié)冷膠高剪切粉液分散混合機

    結(jié)冷膠高剪切粉液分散混合機 不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000納米二氧化硅水性涂料高剪切分散機

    納米二氧化硅水性涂料高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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